一、投资方简介
 

项目投资方为韩国SHT公司或其子公司One-semicon。SHT公司于2004年成立，在韩国半导体研磨及打孔设备占有90%以上的市场。One-semicon公司致力于提供全球领先的应用于干法刻蚀工艺的硅材料零部件解决方案，研发、制造12英寸硅电极、8-12英寸硅环等产品。硅电极及硅环用于提升半导体生产中干法蚀刻设备的效率和良率，从而满足半导体厂商及设备厂商要求。目前公司产品应用于泛林、东电、应用材料及SEMES等蚀刻设备，并最终服务包括三星、SK海力士、中芯国际及长鑫等半导体厂商。

 

二、项目简介
 

项目总投资5000万美元，注册资本3000万美元，一期租用3000平米厂房，二期用地约20亩。一期从事硅电极、硅环等产品的研发、生产。二期将同步开展静电吸盘的研制业务，静电吸盘主要应用于蚀刻机等设备内的晶圆搬运及温度控制。此外，基地业务将拓展到碳化硅零部件、抛光设备制造、二手设备销售及设备再制造领域。项目达产后预计实现年销售收入约5亿元（2025年前），当年形成区级财政贡献约5000万元。

项目初期将由韩国方自行投资运营，并同步启动与国内资本的合作洽谈，根据规划，项目预计于2025年后启动股改，为登陆科创板做准备。